Prueba de límite para n-hexano residual en policosanol por Espacio de Cabeza Estático -Cromatografía de Gases

Autores/as

  • Ernesto J. Méndez Antolín
  • Víctor L. González Canavaciolo
  • Yaisme Balcinde Quiñónez
  • Esperanza Rodríguez Cruz
  • Alexis González Pedroso

Resumen

Como parte del proceso de obtención de un ingrediente
activo, se deben tratar de eliminar en la mayor
medida posible los disolventes empleados, pues sus restos
constituyen impurezas potencialmente tóxicas. Por
este motivo, los organismos reguladores de la Industria
Farmacéutica tienen definidos los contenidos
máximos permisibles para los disolventes residuales
de los ingredientes activos utilizados en la producción
de medicamentos, entre los cuales el n-hexano, empleado
en la obtención del policosanol, presenta un límite
de 290 ppm.1

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Publicado

2020-12-28

Cómo citar

Méndez Antolín, E. J. ., González Canavaciolo, V. L. ., Balcinde Quiñónez, Y. ., Rodríguez Cruz, E. ., & González Pedroso, A. . (2020). Prueba de límite para n-hexano residual en policosanol por Espacio de Cabeza Estático -Cromatografía de Gases. Revista CENIC Ciencias Químicas, 40(3), 135-137. Recuperado a partir de https://revista.cnic.edu.cu/index.php/RevQuim/article/view/834

Número

Sección

Comunicaciones cortas