Limit test for residual n-hexane in policosanol for Static Headspace -Gas chromatography
Abstract
As part of the process of obtaining an ingredient
active, they should be eliminated in the greatest possible
as much as possible the solvents used, since their remains
they constitute potentially toxic impurities. By
For this reason, the regulatory bodies of the Industry
Pharmaceutical have defined the contents
maximum allowable for residual solvents
of active ingredients used in production
of drugs, among which n-hexane, used
in obtaining policosanol, it presents a limit
of 290 ppm.1
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